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400-677-0098
关键词:真空脱脂压力烧结炉压力烧结炉真空烧结炉陶瓷烧结炉
氮化硅压力烧结炉(立式)
氮化硅压力烧结炉(立式)
产品描述:
氮【dàn】化硅压力烧结炉(立式)主要用于半导体领域氮化硅陶瓷制品的真空烧结和气【qì】压烧结等。
应用范围:
氮化硅陶瓷球、轴承、导热基板、平台、导轨、刀具、结构件等。

氮化硅压力烧结炉(立式)技术特征

采用特殊的炉胆结构和加热器布置,炉温均匀性好;

全密闭马弗,密封效果好,抗污染能力强;

可具备真空烧结、压力烧结、负压脱脂烧结等功能;

具有超温超压等故障报警,机械式自动压力保护,动作互锁等功能,设备安全性【xìng】性高;

可选配脱脂系统,实现陶瓷制品的脱脂烧结一次性处理方式;

适于工艺气氛:N2/Ar/H2

氮化硅压力烧结炉(立式)产品规格

型号/参数VPSF-0612VPSF-0917VPSF-1015VPSF-1120
工作区尺寸
W×H×L(mm)
φ600×1200φ900×1700φ1000×1500φ1100×2000
最高温度(℃)2000200020002000
温度均匀性(℃)±5~±10±5~±10±5~±10±5~±10
极限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-100
最高压力(MPa)<10<10<10<10

氮化硅压力烧结炉(立式)配置选择

结构形式:卧式-单开门/双开门;立式-上出料/下出料

炉门锁紧方式:手动/自动

炉壳材质:全碳钢/内层不锈钢/全不锈钢/Q345

保温材质:碳毡/石墨毡/碳纤维固化毡

加热器、马弗材质:石墨/CFC

热电偶:K/N/C/S分度号(钨套管/陶瓷套管)

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高性能陶瓷热工装备

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